漩渦氣泵在半導體設備中抽廢氣的應用

隨著工業(yè)科技的快速發(fā)展,產品工藝的提高,漩渦氣泵已普遍應用到各行各業(yè)中,其中,漩渦氣泵在半導體設備中抽廢氣時，憑借其無油運行、結構緊湊、壓力流量可調等特性，通過負壓吸附、氣體輸送與循環(huán)等功能，有效處理光刻、刻蝕等工序產生的廢氣，確保工藝穩(wěn)定性與環(huán)保合規(guī)性。以下從工作原理、技術優(yōu)勢、應用場景、選型與維護四方面展開分析：

一、工作原理：負壓吸附與氣體輸送的雙重機制
漩渦氣泵通過電機驅動葉輪高速旋轉，利用離心力將空氣從進氣口吸入并甩向葉輪邊緣，在泵體內形成漩渦狀氣流，從而產生高壓或負壓：

抽氣模式（負壓吸附）：進氣口形成負壓，可快速吸附半導體制造過程中產生的廢氣（如光刻工序的有機溶劑廢氣、刻蝕工序的酸性/堿性廢氣），防止廢氣擴散污染環(huán)境或影響工藝穩(wěn)定性。
吹氣模式（氣體輸送）：高壓氣流從排氣口排出，可將廢氣輸送至后續(xù)處理設備（如吸附塔、催化燃燒塔），或用于攪拌廢氣與處理藥劑，提升反應效率。
二、技術優(yōu)勢：適配半導體廢氣處理的重要需求
無油運行，避免二次污染
半導體制造對潔凈度要求，漩渦氣泵采用無油設計，泵腔內無潤滑油，確保輸送的氣體不含油污，避免對晶圓或設備造成污染。
結構緊湊，適應狹小空間
半導體設備內部布局密集，漩渦氣泵體積小、重量輕（通常采用鋁合金或鑄鐵材質），可靈活安裝于設備內部或周邊，節(jié)省空間。
壓力與流量可調，滿足多樣化需求
通過調節(jié)電機轉速或葉輪設計，漩渦氣泵可輸出不同壓力（一般不超過8kPa）和流量，適配光刻、刻蝕、離子注入等不同工序的廢氣處理需求。例如：
低流量高壓：用于吸附微小顆粒或高粘度廢氣；
高流量低壓：用于快速輸送大量廢氣至處理設備。
低噪音與低振動，保障工藝穩(wěn)定性
半導體制造對環(huán)境振動敏感，漩渦氣泵通過優(yōu)化葉輪動平衡和泵體結構，運行噪音低（通常低于65dB），振動小，避免干擾精密設備（如光刻機）的穩(wěn)定性。
維護簡便，降低運營成本
漩渦氣泵結構簡單，無復雜傳動裝置，日常維護需定期檢查葉輪、軸承和密封件，更換潤滑脂（部分型號無需潤滑），維護成本低，停機時間短。
三、典型應用場景：覆蓋半導體制造全流程
光刻工序廢氣處理
光刻膠曝光、顯影過程中釋放的有機溶劑廢氣（如苯、甲苯、二甲苯）具有揮發(fā)性和毒性，漩渦氣泵通過負壓吸附將廢氣快速抽出，輸送至活性炭吸附塔或催化燃燒塔進行凈化，防止廢氣在設備內積聚導致光刻膠性能下降或危害操作人員健康。
刻蝕工序廢氣處理
刻蝕過程中產生的酸性廢氣（如氟化氫、氯化氫）和堿性廢氣（如氨氣）具有強腐蝕性，漩渦氣泵采用耐腐蝕材質（如SUS316不銹鋼）或表面涂層處理，確保長期穩(wěn)定運行。同時，通過氣體循環(huán)功能，將廢氣與中和液充分混合，提升吸收效率。
離子注入與擴散工序廢氣處理
高溫工藝下產生的氨氣、氯氣等有害氣體需快速排出，漩渦氣泵的高抽氣速度（部分型號可達6000 L/s）可確保廢氣及時被抽出真空室，維持工藝穩(wěn)定性。
清洗工序廢氣處理
清洗劑揮發(fā)產生的廢氣需通過漩渦氣泵輸送至過濾設備，去除粉塵和顆粒物后排放，滿足環(huán)保法規(guī)要求。
四、選型與維護要點：確保長期穩(wěn)定運行
選型建議
材質選擇：根據廢氣成分選擇耐腐蝕材質（如SUS316不銹鋼用于酸性廢氣）。
壓力與流量匹配：根據廢氣處理設備的入口壓力和流量需求，選擇合適型號的漩渦氣泵。
防爆設計：若廢氣含易燃易爆成分（如硅烷），需選擇防爆電機和密封結構。
維護注意事項
定期清洗過濾網：防止進氣口堵塞，影響抽氣效率。
檢查軸承與密封件：定期更換潤滑脂（如7018高速潤滑脂），避免漏氣或磨損。
避免過載運行：工作壓力不得超過額定值（通?！?kPa），防止電機過熱或損壞。
環(huán)境控制：安裝于干燥、通風、無腐蝕性氣體的環(huán)境中，溫度不超過40℃，濕度低于80%。